Per anni, Pechino ha investito massicciamente nel rafforzamento della propria industria dei semiconduttori, dalla progettazione alla produzione. Tuttavia, gli analisti concordano sul fatto che il principale ostacolo per i chip avanzati rimane la litografia EUV, indispensabile per produrre semiconduttori inferiori a 7 nanometri. La litografia EUV consente di incidere circuiti estremamente piccoli su wafer di silicio utilizzando luce ultravioletta estrema. Senza questo processo, la produzione di chip avanzati risulta più lenta, costosa e meno efficiente. In pratica,questa tecnologia segna il confine tra i produttori all’avanguardia e il resto del mercato.
La barriera tecnologica dell’EUV
Secondo il South China Morning Post, alcuni scienziati cinesi hanno sviluppato in un laboratorio di alta sicurezza a Shenzhen un prototipo di macchina EUV, costruito da un team che include ex ingegneri dell’olandese ASML. Il sistema sarebbe stato assemblato utilizzando componenti di apparecchiature più vecchie ottenute sui mercati secondari, secondo fonti citate da Reuters.
Gli esperti avvertono, tuttavia, che questo progresso è ancora lontano dal tradursi in produzione industriale. Sebbene l’obiettivo ufficiale sia quello di produrre chip avanzati con questa tecnologia entro la fine del decennio, alcuni analisti ipotizzano uno scenario più realistico intorno al 2030.
La sfida non risiede solo nella generazione di luce EUV, ma anche nell’enorme complessità dell’ecosistemache circonda queste macchine, che integrano centinaia di migliaia di componenti, dall’ottica di precisione e dai sistemi laser alla meccatronica avanzata, al software e al controllo estremo del vuoto. ASML rimane, per ora, l’unico produttore in grado di produrre queste apparecchiature su scala commerciale.
Di fronte alle restrizioni all’esportazione di tecnologia occidentale, anche la Cina sta esplorando vie alternative. Tra queste figura l’uso intensivo della litografia a ultravioletti profondi (DUV) combinata con tecniche di produzione più complesse, una strategia che consente alcuni progressi, ma che non sostituisce completamente l’EUV in termini di prestazioni e costi.
La corsa al dominio della litografia EUV riflette quanto i semiconduttori siano diventati una questione strategica. Al di là di un progresso puntuale, la sfida per la Cina consiste nel riprodurre decenni di conoscenza industriale e una catena di approvvigionamento altamente specializzata, un processo che difficilmente può essere accelerato nel breve termine.
